電気探査

先日扱っていた HandyViewer miniOHM では、いくつかのアダプターが接続できます。
そのアダプターによって比抵抗値の計算方法は変わります。が、基本的な考え方は同じでしょう。

電極を多数配置して測定する電気探査の場合も、電流が放射状に流れ、等電位面が球面を形成するというイメージではないでしょうか。地表から電流を流し地表で測定する場合は、放射状電流の重ね合わせを考え、平均的な比抵抗値を算出します。地下水で言う虚像井と同じ組み立て方です。上記の壁面アダプターも同じ考えでしょう。

電気探査の場合は電極間隔（球面直径）を大きく取り、深部の情報まで得ようとします。それを、解析的にフィッティングし、（平坦であろうが斜面であろうが）鉛直2次元として作画するわけです。少しおかしいのですが、平坦面でも鉛直、斜面でも鉛直で作画します。構造物や技術者に都合の良いように、解釈、投影するわけです。ま、その程度の精度であるということです。

時々見るのですが、複数の直線で曲線を分割した測線計画。探査深度と電極間隔による球面のイメージ内であれば、多少の曲がりは個人的にOKなのですが、直線で計画される方はそうではないようです。それなら鉛直かどうかにこだわった方が良いと思うのですが。
では、どこまでのRであればOKなのかというと、基準はありませんし、個人的にも感覚でしかありませんでした。

先日、このような話をダラダラとプロにしていると、ある指標を出してこられました。Rなりの電極間隔（探査深度）と、それを直線で結んだ場合の距離の比率を、解析に対する影響度として定義されていました。ま、何もないよりはマシといった程度ですが、「感覚」よりは説明しやすいかも知れません。機会があれば利用させてもらいましょう。